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刻蚀显影清洗系统是一套脱机系统，在一个封闭的清洗室内清洗网纹辊，并由计算机控制。该系统包含一个回收装置，去除废料，清洗介质的表面，并允许塑料介质可以重复多次使用。该系统具有分别处理窄滚筒、中等幅宽滚筒和宽至95英寸的滚筒的机构，可以满足各种不同的印刷需求。
刻蚀显影清洗系统特点:
1. CIP在位清洗系统的经济运行成本低，结构紧凑，占地面积小.安装.维护方便，能有效地对缸罐容器及管道等生产设备进行就地清洗，其整个清洗过程均在密闭的生产设备，缸罐容器和管道中运行，从而大大减少了二次污染机会。
2. 可根据生产需要分为一路至四路。尤其是二路及二路以上，既能分区同时清洗同一个或二个以上区域，也能在生产过程中边生产边清洗。这样在生产时就大大缩短了CIP清洗的 全自动CIP清洗系统时间。
3. 体外循环系统，可有效减少能耗。
4. 回水系统，可有效减少CIP用水。
5. 尤其是，能对清洗液进行自动检测.加液.排放.显示与调整，对其运行可靠，自动化程度高，操作简单，CIP清洗效果好，因而更符合现代大规模流体药品.食品加工工艺的卫生要求及生产环境要求。
刻蚀显影清洗系统
http://www.first-nano.com/SonList-1420446.html
https://www.chem17.com/st326752/product_26436812.html
刻蚀显影清洗系统